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Scrubber尾气处理系统

2020-12-10 12:01:59 0

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Local Scrubber废气处理特性

半导体工艺中常使用的化学物质及其副产物,一般依照其化学特性与其不同的影响范围,可分为:
1.易燃性气体如SiH4、H2等
2.毒性气体如AsH3、PH3等
3.腐蚀性气体如HF、HCl等
4.温室效应气体如CF4、NF3等

基于以上内容四类甲烷甲烷实验室甲烷实验室有毒气体对大环境或人体皆具有着有一定的隐患性,必要放置其简单排放量大方中,全部,通常情况半导体行业行业厂都以改加中长安小型军委烟气补救体系软件.但此体系软件仅以水洗條烟气.故其技术应用的范围仅供于补救水可溶甲烷甲烷实验室甲烷实验室有毒气体,难以因应不断变化且职责细节的半导体行业行业的新工艺系统烟气.故而必要意义各的新工艺系统所诞生出的甲烷甲烷实验室甲烷实验室有毒气体特征参数总类,选择配合相对而言应的烟气补救系统,方能很好的外理烟气方面.而基于工做部分划分就是离军委烟气补救体系软件前,常因甲烷甲烷实验室甲烷实验室有毒气体特征参数促使蒸汽管道中晶粒或粉层累积,造蒸汽管道堵塞了后促使甲烷甲烷实验室甲烷实验室有毒气体液化气泄漏,难治者由于促使爆炸事件,难以以保证场地工做考生之工做的安全性.故而在工做部分划分需标准配置符合的新工艺系统甲烷甲烷实验室甲烷实验室有毒气体特征参数的长安小型烟气补救系统(Local Scrubber),以抑制在工做部分划分拒载的烟气,以保证考生的安全性。






半导体工艺废气处理方式
依据废气处理的特性,在处理可分为四种处理方式:
1、水洗式(处理腐蚀性气体)
2、氧化式(处理燃烧性,毒性气体
3、吸附式(干式)(依照吸附材种类处理对应之废气)
4、等离子燃烧式(各类型废气皆可处理)

Scrubber尾气排放工作仪器可工作气休各种类型属于半导体芯片、液晶屏同时太阳队能等业中蚀刻制造与检查是否液相火成岩制造中便用的特气,大部分属于SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等。